半导体在生产或者清洗时，需要使用到水，普通的水中常常含有微生物、金属离子等杂质，这些杂质会对半导体造成一定的影响，为了能够去除这些杂质，达到处理半导体的目的，半导体制造商会使用到超纯水设备，超纯水设备能够有效的去除水中的杂质，同时提供水的电阻率，是目前半导体中最受欢迎的一款设备。
半导体超纯水设备产水标准：
半导体对水质的要求非常高，水质不能达到要求，就会对半导体的性能造成影响，所以半导体超纯水设备的产水标准非常的严格，需要完全符合美国ASTM纯水水质标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、中国电子工业部电子级水质技术标准、国内外大规模集成电路水质标准，如果不能满足，就不能直接使用在半导体中。
半导体超纯水设备的工艺：
半导体超纯水设备的工艺流程主要有EDI超纯水设备、二级RO反渗透、离子交换树脂这三种：
EDI超纯水设备：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
EDI模块抗污染性较差，一般在EDI系统的前面加入过滤器、软水机、反渗透等设备，让EDI模块的进水能够符合要求，这样EDI模块的产水一般能够达到15-18兆欧左右。
二级ro反渗透设备：
原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－保安过滤器－第一级反渗透机－第二级反渗透机－储水罐－纯水输送泵－用水点
二级反渗透设备则是在反渗透设备的基础上增加了一道反渗透过滤程序。使用在半导体中的产水，使用一级反渗透是无法达到要求的，所以会在一级反渗透后面再加一道反渗透，使产水能够达到半导体用水要求。
离子交换树脂：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
离子交换树脂设备主要是通过离子吸附的原理对水进行处理，先使用阳离子交换树脂将水中的阳离子进行吸附，再通过阴离子交换树脂吸附阴离子，最后使用混床抛光树脂，提高产水的水质、电阻率，使产水能够满足半导体用水的要求。
注意：这三种处理工艺可以根据用户的进水条件、产水要求进行适当的调整，如果有这方面的需求，可以咨询我们的客服了解详情。
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